Плазменная обработка

Плазменная обработка — процесс обработки материалов при помощи низкотемпературной плазмы, генерируемой дуговыми или высокочастотными плазмотронами, с целью изменения формы, размеров, структуры обрабатываемого материала или состояния его поверхностного слоя. Разновидностями плазменной обработки являются: разделительная и поверхностная резка, нанесение покрытий, напыление, сварка^[1].

Подвидами плазменной обработки являются:

• Плазменная активация;
• Плазменно-иммерсионная ионная имплантация^[en]
• Плазменная модификация;
• Плазменное травление^[en];
• Плазменное напыление;
• Плазменная наплавка;
• Плазменная резка;
• Плазменная полимеризация^[en];
• Плазменная функционализация;
• Плазменно-химическое осаждение из газовой фазы;
• Финишное плазменное упрочнение.

Галерея

• 

  Плазменная резка

• 

  Изготовление отверстий плазмою(плазменное сверление)

• 

  Плазменное напыление в вакууме

• 

  Схема установления плазменного напыления: 1 — Катод. 2 —Подача порошкового материала. 3 — Части порошка. 4 — Расплавленные части порошка. 5 — Объект напыления. 6 — Подкладка. 7 — Плазмообразующий газ. 8 — Анод. 9 — Плазмовая дуга. 10 — Плазменная струя с частицами порошка.

• 

  Схема установки плазменного сваривания: 1 — Плазмообразующий газ. 2 — Защитная насадка. 3 — Струя. 4 — Електрод. 5 — Насадка сужения. 6 — Электрическая дуга.

• 

  Оборудование плазменной поверхностной обработки (очищение)

Примечания

Литература

• • Соснин Н. А., Ермаков С. А., Тополянский П. А. Плазменные технологии. Руководство для инженеров. Изд-во Политехнического ун-та. СПб.: 2013. - 406 с.
  • Ивановский Г. Ф., Петров В. И. Ионно-плазменная обработка материалов. — М.: Радио и связь, 1986.
  • Д.Толливер, Р.Новицки, Д.Хесс и др.; Под ред. Н.Айнспрука, Д.Брауна. Плазменная технология в производстве СБИС. — М.: Мир, 1987. — 469 с.
  • Данилин Б. С., Киреев В. Ю. Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов. — М.: Энергоатомиздат, 1987. — 263 с.
  • Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. — М.: Энергоатомиздат, 1989. — 328 с.
  • Попов В. Ф., Горин Ю. Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии. — М.: Высш. шк., 1988. — 255 с. — ISBN 5-06-001480-0.
  • Виноградов М.И., Маишев Ю.П. Вакуумные процессы и оборудование ионно - и электронно-лучевой технологии. — М.: Машиностроение, 1989. — 56 с. — ISBN 5-217-00726-5.

Эта страница в последний раз была отредактирована 11 декабря 2021 в 05:58.